第395章 与世界为敌
第395章与世界为敌
《半导体行业的革新产品出现》
《阿斯麦公司率先研发出EUV光刻机》
《芯片工艺制程或将提升十倍》
《芯片工艺已将达到物理极限》
在依然还有着‘魔力’‘外星生物’这些热点的时候，阿斯麦的EUV光刻机在背后一群资本的运作下，立刻就登上了全球热点。
本来正常来说，一件商品的更新迭代都是有迹可循的，或者说会有着技术储备。
比如明明EUV光刻机是重新的新开赛道，和以前的DUV光刻机关系不大，但在平行世界这也硬是等到了芯片达到了DUV光刻机极限的7nm瓶颈后才拿出来的。
但在这里，因为安布雷拉DUV光刻机带来的压力，还有人工智能以及量子计算+超算的模式前景摆在这里。
为了重新争夺这尖端利润，为了更美好的前景。
在如今最顶级的芯片工艺制程还是14nm的时候，阿斯麦公司就端出了他们的EUV光刻机。
而且因为安布雷拉对镜片领域的影响加持，还有其他各方面技术带来的竞争感。
阿斯麦这次提前拿出的EUV光刻机比原本计划的各项技术参数，还要更加优秀！
某积电、四星、英特尔等晶圆厂都已经到货，并开始组装调试！
显然阿斯麦的EUV光刻机并不是说刚刚才造出来的，是已经开始供货让他们加班加点的完成组装后才开始官宣的。
为的就是一步到位，为的就是减少给竞争对手的反应时间！
EUV光刻机比DUV要大得多，重量180吨，甚至连运输都需要专门的车辆，组装起来也相当麻烦。
如果不是提前就已经为这些合作晶圆厂的工作人员进行了培训，从头开始的话安装调试个大半年都是相当正常的。
而现在，在安布雷拉那边的压力下，不管是阿斯麦还是各大晶圆厂都拿出了自己的最大潜力，加班加点的全都联动了起来。
在各路资本推波助澜的炒作下，配合着这次对于安布雷拉新增的多项制裁，也一下让很多人多缓过了神来。
这一次，恐怕针对的就是安布雷拉！
“好大的手笔！”
“之前觉得世界公司已经很冤了，但对比一下针对安布雷拉的才可怕！”
“世界公司只是顺带被波及的，主要目标都放在安布雷拉这的，实在是他们身上的利益太大了。”
“阿斯麦好阴险啊，一直捂着不放，差不多一锤定音的时候就出来了。”
“……”
伴随着网络上的讨论发酵，等到热度达到峰值的时候，阿斯麦这边也进行了一个直播节目。
同时有着某积电、四星、英特尔等诸多半导体工程师，还有一些芯片设计厂、封装厂等等的专业人士。
站在一处厂房外，所有人脸上都是带着笑容。
直播镜头前，由阿斯麦的工程师率先开口进行了介绍
“恐怕很多人都没想到，我们会直接放弃原本成熟的DUV技术，直接从头开始的研发EUV光刻机。”
一边说，他们还围绕着厂房一边走。
“或许从最开始，就没人看好EUV光刻机，因为虽然理论上这能达到DUV光刻机的十倍分辨率，但实在是太难了，难度太大，需要突破的瓶颈太多，对技术的需求极高，克服的难点数不胜数。”
一边说着他还一边打开了手环，形成了一个三维的全息投影简单的介绍道
“大家都知道光刻机的本质就是曝光，DUV光刻机，我们还能找到对应的镜片让深紫外线通过，特别是后来安布雷拉的技术产出的新镜片，更是加强了这一点，安布雷拉自己的光刻机就是利用了这一点弯道超车，在不使用浸润法的情况下超过了我们的效率！”
阿斯麦没有去贬低安布雷拉，甚至还可以说在旁边吹嘘。
因为只有将安布雷拉的强大体现出来，才能说明他们更强！
这是一个强大的对手，但还是输了，输在了我们面前！
“但，这一点对EUV光刻机却是不行，我们使用的13.5nm波长极紫外线电离能力极强，没有镜头可以适合这种精度下让这种高能光束通过，所以唯一可以选择的办法，只有反射！”
一边说着，全息图像上也进行了改变，讲解了一下大概的原理。
就是不断利用一些镜片的反射来完成对极紫外线的汇聚。
总共要完成十几次的反射才能达到最后的曝光要求！
“这对于反射镜片的精度需求可以说是极高的，要感谢卡尔蔡司公司在这方面的付出。”
说完就对旁边卡尔蔡司的工程师做出了一个请的手势。
卡尔蔡司公司的工程师也顺势站了出来礼貌的说道
“我们同样利用到了安布雷拉的技术涂层，不过当然，就精度方面，我们还是有点自信的……”
随后，阿斯麦的代表又介绍了他们的EUV光源。
“之前说了，极紫外线需要通过十几次反射才能达到我们的效果，而因为极紫外线的电离消耗，每次反射都会损失大概30%左右的能量，最终我们能够有效利用的光只有大概2%，因此，我们需要光源有着足够且稳定的输出功率，为了克服这个问题Cymer公司可是花费了整整十年的时间来攻克，不过Cymer公司在三年前已经被我们公司完成了收购……”
一边说着，他一边继续外放了全息画面，里面连原理都出来了，就是用高能激光不断轰击液态金属滴，难度和精确度看着他提供的数据就让人头皮发麻。
只是制造出来不难，可要保持稳定和持久，还有足够输出功率的光源，那就要确保每次的撞击都极为精准，且频率要足够高。
不断轰击滴落的金属液滴，各方面稍微有一点失误都是完全不同的。
再后面随着不断的介绍，观众也明白了这台机器是怎么样组合起来的怪物。
大漂亮的光源技术，霓虹的光源转换设备，高卢的阀件，普鲁士的镜头，瑞典的轴承，都需要极为精密，缺一不可，连安装都要极为精细要避开周边环境的轻微震动。
甚至连运输光刻机的车辆，都是某积电的专利技术！
直播到这里，很多观众眼里也就看明白了问题所在。
EUV光刻机绝不是一个两个技术的问题，而是汇聚了全球所有最顶级的科技。
而这些顶级巨头汇聚在一起，就是为了压下安布雷拉公司。
还是直接靠着技术代差，一口气完成碾压的方式！
这本身，也是一种秀肌肉的表现！
如今，主流的芯片工艺才到14nm。
然而EUV光刻机的理论极限却是能达到硅基芯片的极限，可以达到1nm！
如果能解决隧穿问题，甚至还能更低！
是，这不符合商业规律和利润。
没有慢慢的更新迭代来进行收割。
但没办法，安布雷拉这边杀出来太强了，他们的DUV光刻机性能太好，而且芯片简直就是处于黑盒状态完全摸不清。
这种情况只能一口气拿出最好的将他们直接打倒。
虽然芯片方面一下透支到了极限，但却可以在量子计算+超算以及人工智能方面补回来！
安布雷拉人工智能再强，也是需要依托于硬件的！
现在，阿斯麦就是在这里打明牌。
我们，拥有着全球各种最强的技术。
“这，就是我们的EUV光刻机，虽然现在才在各大晶圆厂完成安装调试，之后如何将工艺提升到极限还要看各大晶圆厂的手段，但我们的工具好歹已经制作完成，已经有了不断试错吸取经验的条件，可以不断向前，不断前进……
“安布雷拉公司很强，非常强，强到让人叹为观止，我现在所展示的全息技术，我们镜片上强化的涂层，还有人工智能的结构等等，都奠定了安布雷拉的强大基础。
“但，我们更强……”
随后镜头拉远，也将阿斯麦和诸多参与了EUV零部件设计的公司，将EDA三大厂，将芯片设计厂，将晶原厂所有代表，全都同框。
展现了他们巨大的底气与实力。
之所以做出这个直播，就是为了向所有人宣告。
他们，掌握着全球最顶级的技术。
这种技术的沉淀，不是你短时间可以追赶上的！
你或许能短期突破某个瓶颈，可你无法突破全部瓶颈！
在伱追赶的时候，我们也会继续前行，永远走在前面，建好诸多壁垒堵住你的去路，让我们始终保持着差距！
让我们始终占据着最大的利润！
你们，在与世界为敌……
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三更~第一更
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《半导体行业的革新产品出现》
《阿斯麦公司率先研发出EUV光刻机》
《芯片工艺制程或将提升十倍》
《芯片工艺已将达到物理极限》
在依然还有着‘魔力’‘外星生物’这些热点的时候，阿斯麦的EUV光刻机在背后一群资本的运作下，立刻就登上了全球热点。
本来正常来说，一件商品的更新迭代都是有迹可循的，或者说会有着技术储备。
比如明明EUV光刻机是重新的新开赛道，和以前的DUV光刻机关系不大，但在平行世界这也硬是等到了芯片达到了DUV光刻机极限的7nm瓶颈后才拿出来的。
但在这里，因为安布雷拉DUV光刻机带来的压力，还有人工智能以及量子计算+超算的模式前景摆在这里。
为了重新争夺这尖端利润，为了更美好的前景。
在如今最顶级的芯片工艺制程还是14nm的时候，阿斯麦公司就端出了他们的EUV光刻机。
而且因为安布雷拉对镜片领域的影响加持，还有其他各方面技术带来的竞争感。
阿斯麦这次提前拿出的EUV光刻机比原本计划的各项技术参数，还要更加优秀！
某积电、四星、英特尔等晶圆厂都已经到货，并开始组装调试！
显然阿斯麦的EUV光刻机并不是说刚刚才造出来的，是已经开始供货让他们加班加点的完成组装后才开始官宣的。
为的就是一步到位，为的就是减少给竞争对手的反应时间！
EUV光刻机比DUV要大得多，重量180吨，甚至连运输都需要专门的车辆，组装起来也相当麻烦。
如果不是提前就已经为这些合作晶圆厂的工作人员进行了培训，从头开始的话安装调试个大半年都是相当正常的。
而现在，在安布雷拉那边的压力下，不管是阿斯麦还是各大晶圆厂都拿出了自己的最大潜力，加班加点的全都联动了起来。
在各路资本推波助澜的炒作下，配合着这次对于安布雷拉新增的多项制裁，也一下让很多人多缓过了神来。
这一次，恐怕针对的就是安布雷拉！
“好大的手笔！”
“之前觉得世界公司已经很冤了，但对比一下针对安布雷拉的才可怕！”
“世界公司只是顺带被波及的，主要目标都放在安布雷拉这的，实在是他们身上的利益太大了。”
“阿斯麦好阴险啊，一直捂着不放，差不多一锤定音的时候就出来了。”
“……”
伴随着网络上的讨论发酵，等到热度达到峰值的时候，阿斯麦这边也进行了一个直播节目。
同时有着某积电、四星、英特尔等诸多半导体工程师，还有一些芯片设计厂、封装厂等等的专业人士。
站在一处厂房外，所有人脸上都是带着笑容。
直播镜头前，由阿斯麦的工程师率先开口进行了介绍
“恐怕很多人都没想到，我们会直接放弃原本成熟的DUV技术，直接从头开始的研发EUV光刻机。”
一边说，他们还围绕着厂房一边走。
“或许从最开始，就没人看好EUV光刻机，因为虽然理论上这能达到DUV光刻机的十倍分辨率，但实在是太难了，难度太大，需要突破的瓶颈太多，对技术的需求极高，克服的难点数不胜数。”
一边说着他还一边打开了手环，形成了一个三维的全息投影简单的介绍道
“大家都知道光刻机的本质就是曝光，DUV光刻机，我们还能找到对应的镜片让深紫外线通过，特别是后来安布雷拉的技术产出的新镜片，更是加强了这一点，安布雷拉自己的光刻机就是利用了这一点弯道超车，在不使用浸润法的情况下超过了我们的效率！”
阿斯麦没有去贬低安布雷拉，甚至还可以说在旁边吹嘘。
因为只有将安布雷拉的强大体现出来，才能说明他们更强！
这是一个强大的对手，但还是输了，输在了我们面前！
“但，这一点对EUV光刻机却是不行，我们使用的13.5nm波长极紫外线电离能力极强，没有镜头可以适合这种精度下让这种高能光束通过，所以唯一可以选择的办法，只有反射！”
一边说着，全息图像上也进行了改变，讲解了一下大概的原理。
就是不断利用一些镜片的反射来完成对极紫外线的汇聚。
总共要完成十几次的反射才能达到最后的曝光要求！
“这对于反射镜片的精度需求可以说是极高的，要感谢卡尔蔡司公司在这方面的付出。”
说完就对旁边卡尔蔡司的工程师做出了一个请的手势。
卡尔蔡司公司的工程师也顺势站了出来礼貌的说道
“我们同样利用到了安布雷拉的技术涂层，不过当然，就精度方面，我们还是有点自信的……”
随后，阿斯麦的代表又介绍了他们的EUV光源。
“之前说了，极紫外线需要通过十几次反射才能达到我们的效果，而因为极紫外线的电离消耗，每次反射都会损失大概30%左右的能量，最终我们能够有效利用的光只有大概2%，因此，我们需要光源有着足够且稳定的输出功率，为了克服这个问题Cymer公司可是花费了整整十年的时间来攻克，不过Cymer公司在三年前已经被我们公司完成了收购……”
一边说着，他一边继续外放了全息画面，里面连原理都出来了，就是用高能激光不断轰击液态金属滴，难度和精确度看着他提供的数据就让人头皮发麻。
只是制造出来不难，可要保持稳定和持久，还有足够输出功率的光源，那就要确保每次的撞击都极为精准，且频率要足够高。
不断轰击滴落的金属液滴，各方面稍微有一点失误都是完全不同的。
再后面随着不断的介绍，观众也明白了这台机器是怎么样组合起来的怪物。
大漂亮的光源技术，霓虹的光源转换设备，高卢的阀件，普鲁士的镜头，瑞典的轴承，都需要极为精密，缺一不可，连安装都要极为精细要避开周边环境的轻微震动。
甚至连运输光刻机的车辆，都是某积电的专利技术！
直播到这里，很多观众眼里也就看明白了问题所在。
EUV光刻机绝不是一个两个技术的问题，而是汇聚了全球所有最顶级的科技。
而这些顶级巨头汇聚在一起，就是为了压下安布雷拉公司。
还是直接靠着技术代差，一口气完成碾压的方式！
这本身，也是一种秀肌肉的表现！
如今，主流的芯片工艺才到14nm。
然而EUV光刻机的理论极限却是能达到硅基芯片的极限，可以达到1nm！
如果能解决隧穿问题，甚至还能更低！
是，这不符合商业规律和利润。
没有慢慢的更新迭代来进行收割。
但没办法，安布雷拉这边杀出来太强了，他们的DUV光刻机性能太好，而且芯片简直就是处于黑盒状态完全摸不清。
这种情况只能一口气拿出最好的将他们直接打倒。
虽然芯片方面一下透支到了极限，但却可以在量子计算+超算以及人工智能方面补回来！
安布雷拉人工智能再强，也是需要依托于硬件的！
现在，阿斯麦就是在这里打明牌。
我们，拥有着全球各种最强的技术。
“这，就是我们的EUV光刻机，虽然现在才在各大晶圆厂完成安装调试，之后如何将工艺提升到极限还要看各大晶圆厂的手段，但我们的工具好歹已经制作完成，已经有了不断试错吸取经验的条件，可以不断向前，不断前进……
“安布雷拉公司很强，非常强，强到让人叹为观止，我现在所展示的全息技术，我们镜片上强化的涂层，还有人工智能的结构等等，都奠定了安布雷拉的强大基础。
“但，我们更强……”
随后镜头拉远，也将阿斯麦和诸多参与了EUV零部件设计的公司，将EDA三大厂，将芯片设计厂，将晶原厂所有代表，全都同框。
展现了他们巨大的底气与实力。
之所以做出这个直播，就是为了向所有人宣告。
他们，掌握着全球最顶级的技术。
这种技术的沉淀，不是你短时间可以追赶上的！
你或许能短期突破某个瓶颈，可你无法突破全部瓶颈！
在伱追赶的时候，我们也会继续前行，永远走在前面，建好诸多壁垒堵住你的去路，让我们始终保持着差距！
让我们始终占据着最大的利润！
你们，在与世界为敌……
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